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基于SiO2/Si晶片的雙層CVD石墨烯薄膜
將兩層單層CVD石墨烯膜轉移 到285nm p摻雜的SiO 2 / Si晶片上
尺寸：1cmx1cm; 4片
將每個石墨烯膜連續轉移到晶片上
我們的石墨烯薄膜的厚度和質量由拉曼光譜控制
該產品的石墨烯覆蓋率約為98％
石墨烯薄膜是連續的，具有小孔和有機殘留物
每個石墨烯薄膜主要是單層（超過95％），偶爾有少量多層（低于5％的雙層）
由于沒有A-B堆疊順序。石墨烯薄膜彼此隨機取向。
薄層電阻：215-700Ω/平方
硅/二氧化硅晶圓的特性：
氧化層厚度：285nm
顏色：紫羅蘭色
晶圓厚度：525微米
電阻率：0.001-0.005歐姆 - 厘米
型號/摻雜劑：P /硼
方向：<100>
前表面：拋光
背面：蝕刻
應用：
石墨烯電子和晶體管
導電涂料
航空航天工業應用
支持金屬催化劑
微執行器
MEMS和NEMS
化學和生物傳感器
基于石墨烯的多功能材料
石墨烯研究
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